日期
- 04/27
- 2025
咨询
-
QQ扫一扫
-
Vision小助手
(CMVU)
光谱共焦位移传感器对射测量半导体晶圆厚度
收藏
2025-04-27 11:07:22来源: 中国机器视觉网
检测项目
晶圆作为半导体芯片的基础载体,其厚度的精确控制直接影响到芯片的性能、可靠性和最终产品的成品率。通过准确的晶圆厚度测量,可以确保芯片在制造过程中的稳定性和一致性,从而提高产品的整体质量。
创视智能C系列光谱共焦位移传感器具有高精度、高分辨率的特点,无惧各种材质、形状测量,能快速、稳定测量晶圆厚度变化,确保晶圆的厚度符合严格的设计标准。
检测需求
检测项目:光谱共焦位移传感器对射测晶圆厚度
探头型号:TS-C2600
测量范围:±1.3mm
精度要求:1μm
晶圆对射测厚方案
半导体晶圆器件通常由多层薄膜组成,每一层的材料和结构都可能不同。光谱共焦位移传感器拥有极高的稳定性能,可以实现对晶圆厚度的微米级测量,能轻松应对高透明、高反光、低反射率、粗糙等不同形状和材质的物料,解决因各种材质影响而导致信号无法稳定回传的难题。
创视智能光谱共焦位移传感器可以实现0.02 µm的重复精度,±0.02% of F.S.的线性精度,最高30kHz的测量速度,支持485、模拟量、外部电平触发、USB、以太网、的数据传输接口。对晶圆厚度的实时监测,将测量数据实时反馈给生产控制系统,从而实现对工艺参数的实时调整和优化。这有助于提高半导体制造的自动化程度和生产效率,降低生产成本和浪费。
(文章来源于创视智能,如有侵权,请联系删文)