Precitec Enovasense 激光光热传感器可对任何类型的涂层和基材材料进行精确而稳定的厚度测量，扩散涂层或反射涂层、平面涂层或曲面涂层、粗糙涂层或抛光涂层，以及任何表面。例如镜面、未加工金属面、陶瓷或粘合剂表面。可测量的厚度范围从纳米到毫米，且多年来保持亚微米级测量稳定性。

在半导体工业中，晶圆的加工涉及大量的涂层。在操作中，如晶体管层的沉积、 掩膜、蚀刻、包装固化或成形，各种类型的有机或金属材料被沉积下来。

测试到这些层的厚度对于监测和优化每个过程都很重要。但是，基于光学技术的测量几乎不可能实现完全不透明或具有低透明度的涂层的测量，接触式测量又会对部件造成潜在损害，放射性技术可能涉及安全问题难以集成。在半导体行业，Precitec Enovasense 可对各个工艺制程中的单层或多层不透明的薄膜厚度进行检测。

硬质涂层：Enovasense 传感器特别适用于测量不透明层，如典型的硬掩膜，如 TiN 或 TaN。此外，其还可实现低于 0.5% 无定形碳上的硬掩膜厚度的重复性。例如用于 3D-NAND 闪存工艺。

金属涂层：在金属化工艺中，通过 PVD、CVD 或溅射工艺会涉及到大量金属或合金。Precitec Enovasense 可以测量大约 50 μm 的 Ag 和 Ni 层以及非常薄的 Cu 或 TiN 层，以及非常薄的约 50 nm 的 Cu 或 TiN 层。

沉积层：Precitec Enovasense 传感器还可以测量沉积在半导体元件后端的环氧树脂或聚合物包装涂层。此外，在测量这些不透明层的残余厚度时，还可以进行原位控制。

半导体和电介质层：Precitec Enovasense 还可以测量核心半导体和电介质层，如 SiC、氧化物、 SOI 层 - 并且可以测量到非常低的厚度水平。