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(CMVU)
以“AI+光学”视觉方案,破局半导体检测亚微米级挑战
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2025-09-01 14:42:28来源: 中国机器视觉网
在工业自动化领域,精准的视觉系统被视为实现智能制造的“眼睛”。作为国内领先的机器视觉解决方案提供商,埃姆维始终致力于通过先进视觉技术帮助企业提升产品质量、优化生产效率、降低运营成本。近年来,随着半导体制造工艺不断向3nm及以下节点迈进,晶圆缺陷进入亚微米级别,传统视觉检测技术面临严峻挑战:分辨率不足导致漏检频发,成像精度不足拖累产线良率,复杂场景下算法适应性不足等问题日益凸显。
一、五大核心场景实现技术突破,全链路赋能半导体制造
1.晶圆外观检测:采用高分辨率、大靶面光学镜头,为晶圆表面缺陷检测提供清晰、稳定的成像保障,显著提升检测精度与一致性。
2.键合封装检测:面向高分辨率、高速度与强鲁棒性的需求,埃姆维提供模块化、可定制的光学成像方案,支持先进封装工艺的质量控制。
3.WLCSP侧壁微裂纹检测:通过融合AI算法,视觉系统能够有效区分真实微裂纹与合法结构特征,在低对比度、多噪声环境下仍保持高检出率与低误报率。
4.晶圆字符识别:我们开发专用光学字符识别(OCR)与条码识别算法,确保在切割前对晶圆身份进行快速、准确读取,实现全流程可追溯。
5.分类探针标记检测:借助AI视觉技术,系统可自适应处理不同尺寸、形态的探针标记,大幅简化检测流程,提升分类效率和准确度。